纯水超纯水设备

使用成熟的膜处理工艺;
自动化程度、生产的连续性、易拓展性;
产水水质稳定,满足多个行业用水要求;

解决方案 联系方式

RO-EDI 纯水处理系统

通过将反渗透 (RO) 与电去离子 (EDI) 相结合,简化获取超纯水的工艺流程。

PRO EDI 系列结合了反渗透 (RO) 系统和 E-Cell 电去离子 (EDI) 系统,以单个橇板为基础,配备一个控制器。该设计为客户提供简单的安装流程,使设备易于操作并将其占地面积减小多达 40%。

RO-EDI系统

超纯水设备工艺流程

纯水设备主要工艺段与产水水质关系

超纯水设备工艺流程

*选用不同工艺流程的超纯水设备,全面保证用水标准、满足实际生产需求。

纯水设备技术资料

RO+EDI系列由配备辅助装置并且结合 RO 和 EDI 的集成解决方案构成构成超纯水设备。经过全面设计超纯水设备提供一系列的标准选项和定制功能,电阻率为16至18兆欧/厘米,TDS不足50ppb,二氧化硅含量不足10ppb 并且钠含量不足3ppb的超纯水。

  • 电阻率在10兆欧/厘米以内:原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透设备→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→用水点
  • 电阻率在15兆欧/厘米以上:原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透设备→pH调节→中间水箱→二级反渗透装置(反渗透膜表面带正电荷)→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→ 微孔过滤器→用水点
  • 电阻率在18兆欧/厘米以上:原水箱→原水泵→絮凝加药装置→石英过滤器→活性炭过滤→软化器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透装置→中间水箱→pH调节→二级高压泵→二级反渗透装置→RO水箱→EDI增压泵→UV杀菌装置→EDI装置→超纯水水箱→超纯水增压泵→抛光混床→微孔过滤→用水点

工艺优势和特点

稳定

以全自动、节能、操作简单、环保及安全为原则,保证系统长期稳定运行;

规范设计

与采用独立的 RO 和 EDI 技术时相比,设备占地面积减小多达 40%

品质保证

采用进口(DOW/SUEZ/HYDRANAUTICS)反渗透膜膜元件和各类知名优质配件,脱盐率高,使用寿命长,运行更稳定;

售后服务

切实履行售后服务承诺,无论是解决方案、设备安装、远程诊断、设备零配件,以及设备保养、维护、改造,将围绕客户需求提供支持;

EDI超纯水

采用EDI装置制备超纯水,无需大量的化学药剂和酸、碱再生处理,无化学废液排放,无环境污染;

可拓展性

结合废水回用再利用技术,水资源循环利用;

国家纯水水质分类标准

一级超纯水 EW-Ⅰ: ≥18 MΩ·cm

二级超纯水 EW-Ⅱ: ≥15 MΩ·cm

三级纯水 EW-Ⅲ: ≥10 MΩ·cm

四级纯水 EW-Ⅳ: ≥0.5 MΩ·cm

Ω·cm为电阻率单位,在规定温度下,1cm3(正立方体)水溶液两相对面之间测得的电阻值。通常用符号ρ表示,单位为欧姆厘米(Ω·cm),纯水的理论电阻率为18.3MΩ·cm(25°C)。

目前,我国电子工业部把工业超纯水水质技术分为五个行业标准(GB/T 11446),分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。制备超纯水的办法一般选用反渗透设备,去离子或电去离子(EDI)等工艺。在水质要求达10MΩ.cm以上,一般选用不同的工艺进行组合调配的办法来制取,例如选用反渗透加去离子,反渗透加EDI等。

为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量;在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,经过预处理系统、反渗透系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)等系统,根据不同用户对纯水的要求不一,以排列组合的方式,生产出一套套量身订制的纯水处理设备。

相关资讯

纯水设备应用领域

  • 电子半导体行业

    半导体芯片、封装 、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板等行业用半导体级超纯水;

  • 表面处理行业

    电镀工艺用去离子水,表面涂装、清洗纯水;

  • 光学玻璃行业

    锂电池生产,单晶硅、半导体晶片切割制造,玻璃磨边、清洗、镀膜等环节的纯水;

  • 食品、饮料行业

    饮料、啤酒、乳业食品加工、饮料生产添加的食品级纯化水;

  • 化工行业

    化工反应冷却、化学药剂、化肥及精细化工、化妆品生产过程用工艺纯水;

  • 锅炉除盐水

    高、中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水设备;

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昌海环保提供卫生级纯水设备,可用于口罩生产加工配套的纯化水。设备设计为全自动运行,产水水质100%符合医用纯化水相关标准。

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新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的工业EDI超纯水设备来清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对EDI超纯水设备的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

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RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。

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去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为:“去离子水完全或不完全地去除离子物质。”如今的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。

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EDI 超纯水设备可根据不同的源水水质采用不同的工艺。一般自来水经一级反渗透系统处理后,产水电导率 10μS/cm ,经二级反渗透系统后产水电导率 5μS/cm 甚至更低,在反渗后端采用EDI电除盐装置,整套系统自动化运行,并且可通过手机等多终端实时了解水质状况和设备运行状况。产品广泛应用于多个行业领域,详情可咨询我司销售人员。

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